PVD ဖုန်စုပ် coating cathodic arc deposition စက်သည် အသစ်တီထွင်ထားသော cathode electric arc ion အရင်းအမြစ်ကို အသုံးပြုထားသည်။ဤ arc အရင်းအမြစ်အသစ်သည် လုပ်ငန်းစဉ်အတွင်း အမှုန်များ၏ ပမာဏနှင့် ပမာဏကို ထိထိရောက်ရောက် လျှော့ချနိုင်သည်။ထို့အပြင် ၎င်းသည် တည်ငြိမ်စွာ လည်ပတ်နိုင်ပြီး လျှပ်စစ်ဓာတ်အားနည်းပါးမှုအောက်တွင် အချိန်ကြာကြာ ထိန်းသိမ်းထားနိုင်သည်။ထို့ကြောင့်၊ coating film သည် base နှင့် ကောင်းမွန်စွာ ချိတ်ဆက်နိုင်ပြီး ချောမွေ့သော မျက်နှာပြင်နှင့် မြင့်မားသော micro-hardness စသည်တို့ဖြင့် ထင်ရှားပါသည်။