အလူမီနီယမ်ကြေးမုံ Inline Magnetron Sputtering Line
အဓိကအင်္ဂါရပ်များ
- အလူမီနီယမ်ကြေးမုံ Inline Magnetron Sputtering Line သည် မှန်ချပ်များပေါ်ရှိ ဖုန်စုပ်လွှာအပေါ်ယံပိုင်းကို အပြီးသတ်ရန်အတွက် လေဟာနယ်အခန်းများစွာပါရှိသည်။
- အဓိကအင်္ဂါရပ်များ-
- 1.Max.glass အပေါ်ယံပိုင်းအရွယ်အစား- 2440x3660mm သို့မဟုတ် စိတ်ကြိုက်ပြုလုပ်ခြင်း။
- 2. Multi-vacuum chambers နှင့် multi-sputtering chamber ဒီဇိုင်းကို ရရှိနိုင်ပါသည်။
- 3. အလျားလိုက်သံလိုက်ထိန်းချုပ်မှုမျဉ်းသည် single-end နှင့် double-end တည်ဆောက်ပုံပါရှိသည်။ဖန်နှစ်ထပ်သန့်ရှင်းရေး၊ အပေါ်ယံပိုင်း၊ ထောက်လှမ်းခြင်း၊ ပန်းချီဆွဲခြင်း၊ အခြောက်ခံခြင်း၊ အအေးခံခြင်းတို့ကို တစ်ကြိမ်တည်းတွင် အပြီးသတ်နိုင်ပါသည်။
- 4. sputtering coating line သည် လုပ်ငန်းစဉ်တစ်ခုလုံးကို ထိန်းချုပ်ရန်အတွက် PLC ကိုအသုံးပြုပြီး coating process data ကိုပြသရန် colour screen တပ်ဆင်ထားပါသည်။
အပေါ်ယံအလွှာ- တိုက်တေနီယမ်၊ ခရုမ်း၊ သံမဏိ၊ အလူမီနီယမ်၊ ငွေ၊ ကြေးနီ စသည်ဖြင့်။
- ဒြပ်ပေါင်း- TiN, TiO2, etc.
- အလွှာအထူ: 5-100nm
- လှိုင်းအလျား 380-780 nm တွင် 8-40%
- Deposition temperature- အခန်းအပူချိန်
- 8 နာရီ ပန့်ဆင်းပြီးနောက် အဆုံးစွန်သော ဖိအား-
- အဝင်လော့ခ်ချခန်းနှင့် လေဟာနယ်သော့ချခန်း- 5×10-1 Pa သို့မဟုတ် အောက်
- Buffer Chamber 1 : 3×10-3 Pa သို့မဟုတ် အောက်
- Sputtering Chamber- 2×10-3 Pa သို့မဟုတ် အောက်
- Buffer Chamber 2 : 3×10-3 Pa သို့မဟုတ် အောက်
- လော့ခ်ချခန်းနှင့် လေဟာနယ်လော့ခ်ချခန်း- 5×10-1 Pa သို့မဟုတ် အောက်
သင့်စာကို ဤနေရာတွင် ရေးပြီး ကျွန်ုပ်တို့ထံ ပေးပို့ပါ။
